什么是內(nèi)孔拋光？磨粒流內(nèi)孔拋光原理是什么？
什么是內(nèi)孔拋光？
內(nèi)孔拋光是機械加工專業(yè)術語，又叫深孔拋光。內(nèi)孔拋光通常采用電化拋光的方法，但是對于其它材料小孔大多用機械的方法，內(nèi)孔拋光難度大，檢驗難度大，耗費工時。
內(nèi)孔拋光通常采用什么方法？
內(nèi)孔拋光通常采用電化拋光的方法，但是對于其它材料小孔大多用機械的方法，內(nèi)孔拋光難度大，檢驗難度大，耗費工時。有內(nèi)孔用電火花放電加工，加工精度高，光潔度好，但是耗費時間。通過布萊特磨粒流拋光機，可以解決各種內(nèi)孔拋光去毛刺 ，鏡面拋光難題。
內(nèi)孔拋光的拋光操作容易嗎？
拋光時，工件一端夾在車床卡盤上，另一端用中心架支承。工件轉(zhuǎn)速為n=10～20r/min，縱向進給量為f=0.5～1mm/r。移動中拖板使頁輪壓向工件內(nèi)孔表面，正、反走刀進行拋光。由于工件長，拋光裝置的臂短，當拋光工件一半內(nèi)孔后，再將工件調(diào)頭安裝，拋光另一半內(nèi)孔。
內(nèi)孔拋光技術：磨粒流內(nèi)孔拋光工藝說明
內(nèi)孔拋光技術目前也是比較多的，但是針對精密工件內(nèi)孔拋光，需要顯著提升光潔度、降低粗糙度，且需要均勻、高效，在這種情況下，使用什么工藝好呢？我們來介紹一種新型的，利用磨粒流體進行內(nèi)孔拋光的工藝！
磨粒流內(nèi)孔拋光原理介紹：
如視頻所示，針對內(nèi)孔內(nèi)壁的流體拋光，是一種物理拋光方式，利用彈性軟磨料進行擠壓研磨，從而提升內(nèi)壁光潔度。彈性軟磨料經(jīng)過增壓系統(tǒng)后，擠壓進入工件孔內(nèi)，進行精細研磨。磨料類型通常為高分子碳化硅軟磨料，鉆石軟磨料等。
控制方式：
通過PLC控制，可調(diào)節(jié)參數(shù)包括壓力、時間、流速等。參數(shù)可記憶保持，以便于下次調(diào)用。
磨粒流內(nèi)孔拋光效果說明：
通過磨粒流拋光后的內(nèi)壁光潔度，可以在原有基礎上，提升3-5個檔次，如原始粗糙度是0.8，可以拋到0.2或以下；原始粗糙度是0.2，可以拋到0.05或以下。內(nèi)孔原始光潔度越高，使用流體拋光后的光潔度就更容易提升！甚至可以達到超精密水準！
效率說明：
一般金屬工件，每次拋光時間在3-5分鐘，根據(jù)工件尺寸，每次拋光的數(shù)量不一樣，越小的工件，每次可以拋光的數(shù)量越多。
如果是硬質(zhì)合金工件，拋光時間要長一點，一般在10-40分鐘不等。
磨粒流內(nèi)孔拋光優(yōu)勢說明：
1、精度高、精度可控，不傷工件；
2、物理拋光，沒有腐蝕性；
3、可處理各種微細孔、異型孔、交叉孔；
4、效率高，效果均勻且徹底。
磨粒流內(nèi)孔拋光與其他內(nèi)孔拋光設備的優(yōu)勢劣勢對比
1. 相對于電化學拋光
雖然磨粒流擠壓珩磨在效率上比不過電化學，但是在拋光粗糙度上，控制地更精細, 電化學拋光完成后，能很好地完成表面清洗工作，但表面光滑度卻不盡人意，特別是針對精密工件拋光
2. 相對于振動研磨拋光
雖然振動研磨拋光兼具環(huán)保、低成本、批量化處理的優(yōu)勢，卻無法完成精密件、內(nèi)孔、交叉孔以及微細孔拋光去毛刺。只能用于普通的小五金類工件，如衛(wèi)浴、衣飾、掛件等產(chǎn)品。而像航空航天件、汽車零部件、模具、醫(yī)療器械、精密工件等產(chǎn)品，只能選擇擠壓拋光去毛刺。
3. 相對于磁力研磨機
擠壓珩磨,不僅可以完成前者無法勝任的微細孔拋光去毛刺，更在于磁力拋光后，產(chǎn)品表面呈現(xiàn)霧化模糊狀態(tài)，不夠明亮，外觀美感差，且毛刺清除不凈等問題
4. 相對于噴砂拋光
以形成高速噴射束將噴料（石榴石砂、銅礦砂、石英砂、金剛砂、鐵砂、海南砂）高速噴射到需要處理的工件表面。使工件表面的外表面或形狀發(fā)生變化,不適合內(nèi)部尤其彎曲道交叉孔道的拋光.
內(nèi)孔拋光去毛刺
總結(jié)一下，使用擠壓內(nèi)孔拋光去毛刺的真正優(yōu)勢如下：
1、環(huán)保
2、可完成精密拋光
3、可完成不規(guī)則形狀、內(nèi)孔、交叉孔、微細孔拋光去毛刺
4、拋光完成后，產(chǎn)品表面明亮，外觀美感佳
5、毛刺清除徹底，拋光效果均勻
6、可對接自動化
